L’azienda ha le sue origini nel laboratorio per la lavorazione dei metalli fondato da Wilhelm Heidenhain a Berlino nel 1889: realizzava stampi, targhe, scale graduate. Dopo la distruzione subita durante la seconda guerra mondiale, il figlio del fondatore fonda a Traunreut la DR. JOHANNES HEIDENHAIN. I primi prodotti furono scale graduate per bilance di precisione. Successivamente fu avviata la produzione di sistemi di misura di posizione ottici per macchine utensili. All’inizio degli anni '60 si completò il passaggio a sistemi di misura lineari e angolari a scansione fotoelettrica. Questa evoluzione favorì l’automazione di molte macchine e impianti nell’industria manifatturiera. Dalla metà degli anni '70, HEIDENHAIN si è affermata in misura crescente come importante costruttore di tecnologia per controlli numerici e azionamenti per le macchine utensili. Dagli albori l’azienda ha espresso un orientamento fortemente tecnico. Per questo e per assicurare l’autonomia dell’azienda come presupposto per il suo sviluppo continuo, nel 1970 il Dr. Johannes Heidenhain ha affidato le quote della sua azienda a una fondazione. Tutto questo consente ad HEIDENHAIN di operare sensibili investimenti in ambito di Ricerca & Sviluppo.
1889
W. HEIDENHAIN fonda a Berlino un laboratorio per l'incisione dei metalli
1923
Il Dr. Johannes Heidenhain entra a far parte dell'azienda paterna
1948
La società DR. JOHANNES HEIDENHAIN viene rifondata a Traunreut
1950
Invenzione del processo DIADUR: produzione di graduazioni di precisione altamente resistenti su vetro mediante copia di una graduazione originale
1970
Viene istituita la fondazione di utilità sociale "DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH"
1980
Morte del Dr. Johannes Heidenhain
2014
HEIDENHAIN è rappresentata a livello mondiale in tutti i Paesi industrializzati
Sistemi di misura angolari per il Daniel K. Inouye Solar Telescope (DKIST, ex Advanced Technology Solar Telescope, ATST)
1936
Supporto di misura copiato con procedimento fotomeccanico con accuratezza ± 0,015 mm
1943
Graduazione circolare copiata con accuratezza ± 3 secondi
1952
Graduazioni per bilance come core business
1967
Reticolo autosupportante, microstrutture
1985
Indici di riferimento a distanza codificata per graduazioni incrementali
1986
Supporti di misura a reticolo di fase
1995
Reticoli a croce piani per sistemi di misura a 2 coordinate
2002
Strutture piane a reticolo di fase per sistemi di misura lineari interferenziali
2005
Reticolo di ampiezza insensibile alla contaminazione e realizzabile mediante ablazione laser
2009
Reticoli a croce di grandi dimensioni (400 mm x 400 mm) per sistemi di misura destinati all'industria dei semiconduttori
Sistemi di misura lineari ottici per macchine utensili
1961
Sistema di misura lineare incrementale LID 1, passo di divisione 8 µm / passo di misura 2 µm
1963
Sistema di misura lineare assoluto LIC con 18 tracce, codice binario puro / passo di misura 5 µm
1965
Interferometro laser per la calibrazione di macchine utensili
1987
Sistema di misura lineare interferenziale aperto LIP 101, passo di misura 0,02 µm
1989
Sistema di misura lineare interferenziale aperto LIP 301, passo di misura 1 µm
1992
Sistema di misura lineare interferenziale a due coordinate PP 109R
2008
Sistema di misura lineare interferenziale LIP 200 con periodo del segnale 0,512 µm, per velocità di traslazione fino a 3 m/s
2010
Sistema di misura lineare assoluto aperto LIC 4000 con 2 tracce,PRC, EnDat 2.2 per corse utili fino a 27 m e risoluzione 1 nm
2012
Sistema di misura lineare a una traccia assoluto LIC 2100
1966
Sistema di misura lineare incrementale incapsulato LIDA 55.6 con nastro graduato in acciaio
1975
Sistema di misura lineare incrementale LS 500 con riga graduata in vetro, corsa utile fino a 3 m, passo di misura 10 µm
1977
Sistema di misura lineare incrementale LIDA 300, corsa utile fino a 30 m
1994
Sistema di misura lineare assoluto LC 181 con 7 tracce, interfaccia EnDat, corsa utile fino a 3 m, passo di misura 0,1 µm
1996
Sistema di misura lineare assoluto LC 481 con 2 tracce, PRC, EnDat, corsa utile fino a 2 m
2011
Sistema di misura lineare assoluto LC 200, corsa utile fino a 28 m, PRC, passo di misura 10 nm
Sistema di misura lineare assoluto LC xx5, corsa utile fino a 4 m, passo di misura 1 nm
Sistemi di misura angolari ottici
1957/1961
Sistema di misura angolare fotoelettrico ROD 1 con 40.000 periodi del segnale/giro, 10.000 divisioni
1962
ROD 1 con 72.000 periodi del segnale/giro
1964
Sistema di misura angolare assoluto ROC 15 / risoluzione 17 bit
Sistema di misura angolare incrementale ROD 800, accuratezza ± 1 secondo
Sistema di misura angolare incrementale RON 905, accuratezza ± 0,2 secondi
1997
Sistema di misura angolare assoluto con giunto integrato lato statore in esecuzione con albero cavo RCN 723, 23 bit monogiro, interfaccia EnDat, accuratezza ± 2 secondi
2000
Sistema di misura angolare interferenziale ERP 880 con 180.000 periodi del segnale/giro, accuratezza ± 0,2 secondi
2004
Sistema di misura angolare assoluto RCN 727 con albero cavo del diametro fino a 100 mm
Sistema di misura angolare interferenziale ROP 8080, per wafer prober, combinazione supporto portante e sistema di misura angolare, 360.000 periodi del segnale/giro
Sistema di misura angolare interferenziale miniaturizzato ERP 1080 in esecuzione single-chip encoder
Trasduttore rotativo fotoelettrico incrementale ROD 1 con 10.000 divisioni
1981
Trasduttore rotativo incrementale ROD 426, lo standard industriale
Trasduttore rotativo multigiro assoluto ROC 221 S, 12 bit monogiro, 9 bit multigiro
Trasduttori rotativi modulari incrementali ERN 1300 per temperature di lavoro fino a 120 °C
1993
Trasduttori rotativi assoluti monogiro e multigiro ECN 1300 e EQN 1300
Trasduttore rotativo assoluto miniaturizzato multigiro EQN 1100 con tecnologia "chip-on-board"
Trasduttore rotativo assoluto monogiro ECN 100 con albero cavo del diametro fino a 50 mm
Trasduttori rotativi assoluti miniaturizzati monogiro e multigiro ECI 1100 e EQI 1100 (con scansione induttiva)
2007
Trasduttori rotativi assoluti con "Functional Safety" SIL2/PL d e interfaccia EnDat 2.2